オープンファシリティ

【プラズマ式原子層堆積装置】

Plasma Enhanced ALD system

メーカー／型番：サムコ／AD-230LP-H

AP-200083

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状態：Status

稼働中 In Service

予約状況
Equipment Availability

メーカー／型番：Manufacturer／Model Name

サムコ／AD-230LP-H
samco／AD-230LP-H

カテゴリー：Category

クリーンルーム内設置装置

装置管理者：Instrument Manager

ナノテク連携室
nano-support-GFC@es.hokudai.ac.jp
0117069340

装置所属／装置供出者：Affiliated Department／Instrument Provider

電子科学研究所
Advanced Research Infrastructure for Materials and Nanotechnology

利用料金：Fee

初回講習料Initial Training Fee	学外（他大学・公的機関）		￥35,200
	学外（その他・民間企業）		￥35,200

予約利用料Facility Usage Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥5,700 / 時間
		データあり	￥4,400 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥13,200 / 時間
		データあり	￥10,300 / 時間

技術代行料Processing Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥14,500 / 時間
		データあり	￥13,200 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥22,000 / 時間
		データあり	￥19,100 / 時間

技術補助料Technical Assisting Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥10,100 / 時間
		データあり	￥8,800 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥17,600 / 時間
		データあり	￥14,700 / 時間

技術支援料（通常）Technical Support Fee (Normal)	学外（他大学・公的機関）		￥4,400 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥4,400 / 時間

技術支援料（高度）Technical Support Fee (High)	学外（他大学・公的機関）		￥8,800 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥8,800 / 時間

技術相談料Technical Consulting Fee	学外（他大学・公的機関）		￥11,000 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥11,000 / 時間

備考：Note	マテリアル先端リサーチインフラ事業装置（ARIM登録番号：HK-618）
概要・性能：Performance	有機金属原料および酸化剤を交互に反応室に供給し、表面反応のみで成膜する装置。
仕様：Specs	成膜材料：Al2O3他試料サイズ：最大8インチ
説明：Guide	電子科学研究所クリーンルーム(創成棟1F)の継続利用について R6年度よりGFC総合システムより受け付けます。下記のリンク先をご確認いただき、お手続きをお願いいたします。 https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/instruments/1582
参考論文：Scholarly Articles	「Atomic Layer Deposition of Hafnium–Zirconium-Oxide Films Using a Liquid Cocktail Precursor Containing Hf(dmap)4 and Zr(dmap)4 for Ferroelectric Devices」、ACS Applied Materials & Interfaces、2025、Akihiro Nishida

カタログ：Catalog

なし

マニュアル：Manual

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課題番号 * ：Issue No.
利用責任者：User Manager
利用者：User
申込日：Application Date	2025/05/19
初回講習料：Initial Training Fee
連絡事項：Note