オープンファシリティ

【真空紫外光露光装置】

Vacuum ultraviolet photolithography (exposure) device

メーカー／型番：エヌ工房／フォトクリエーター PC-01-H

AP-100058

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状態：Status

稼働中 In Service

予約状況
Equipment Availability

メーカー／型番：Manufacturer／Model Name

エヌ工房／フォトクリエーター PC-01-H
N-KOUBOU／Photocreator PC-01-H

カテゴリー：Category

クリーンルーム内設置装置

装置管理者：Instrument Manager

ナノテク連携室
nano-support-GFC@es.hokudai.ac.jp
0117069340

装置所属／装置供出者：Affiliated Department／Instrument Provider

電子科学研究所／電子科学研究所
Research Institute for Electronic Science

利用料金：Fee

初回講習料Initial Training Fee	学外（他大学・公的機関）	￥8,800
	学外（その他・民間企業）	￥8,800

予約利用料Facility Usage Fee	学外（他大学・公的機関）	￥500 / 時間
	学外（その他・民間企業）	￥600 / 時間

材料分析・加工料Material Analysis/Processing Fee	学外（他大学・公的機関）	￥9,300 / 時間
	学外（その他・民間企業）	￥9,400 / 時間

技術相談料Technical Consulting Fee	学外（他大学・公的機関）	￥11,000 / 時間
	学外（その他・民間企業）	￥14,300 / 時間

備考：Note	マテリアル先端リサーチインフラ事業装置（ARIM装置番号：HK-627）
概要・性能：Performance	エキシマランプによる真空紫外露光とエキシマアッシングを行うことが可能である。

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課題番号 * ：Issue No.
利用責任者：User Manager
利用者：User
申込日：Application Date	2025/05/20
初回講習料：Initial Training Fee
連絡事項：Note