オープンファシリティ

【多元スパッタ装置】

Multi Sputtering equipment

メーカー／型番：アルバック／QAM-4-ST

AP-200072

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状態：Status

稼働中 In Service

予約状況
Equipment Availability

メーカー／型番：Manufacturer／Model Name

アルバック／QAM-4-ST
ULVAC／QAM-4-ST

カテゴリー：Category

クリーンルーム内設置装置／創成棟内

装置管理者：Instrument Manager

ナノテク連携室
nano-support-GFC@es.hokudai.ac.jp
0117069340

装置所属／装置供出者：Affiliated Department／Instrument Provider

電子科学研究所
Advanced Research Infrastructure for Materials and Nanotechnology

利用料金：Fee

初回講習料Initial Training Fee	学外（他大学・公的機関）		￥26,400
	学外（その他・民間企業）		￥26,400

予約利用料Facility Usage Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥7,100 / 時間
		データあり	￥5,500 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥9,000 / 時間
		データあり	￥7,000 / 時間

技術代行料Processing Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥15,900 / 時間
		データあり	￥14,300 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥17,800 / 時間
		データあり	￥15,800 / 時間

技術補助料Technical Assisting Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥11,500 / 時間
		データあり	￥9,900 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥13,400 / 時間
		データあり	￥11,400 / 時間

技術支援料（通常）Technical Support Fee (Normal)	学外（他大学・公的機関）		￥4,400 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥4,400 / 時間

技術支援料（高度）Technical Support Fee (High)	学外（他大学・公的機関）		￥8,800 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥8,800 / 時間

技術相談料Technical Consulting Fee	学外（他大学・公的機関）		￥11,000 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥11,000 / 時間

備考：Note	マテリアル先端リサーチインフラ事業装置（ARIM装置番号：HK-611）
概要・性能：Performance	同時成膜、多層成膜に対応可能な4インチ（対向25mm角）対応の多元スパッタ装置。
仕様：Specs	・成膜材料：Au,Cr,Ag,Cu,SiO2、他・カソード：４元（DC３元まで、RF２元まで）・基板サイズ：斜入射φ4inch、対向：25mm角・逆スパッタ、Coスパッタ可能"
説明：Guide	電子科学研究所クリーンルーム(創成棟1F)の継続利用について R6年度よりGFC総合システムより受け付けます。下記のリンク先をご確認いただき、お手続きをお願いいたします。 https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/instruments/1582
参考論文：Scholarly Articles	「Atomic Layer Deposition of Hafnium–Zirconium-Oxide Films Using a Liquid Cocktail Precursor Containing Hf(dmap)4 and Zr(dmap)4 for Ferroelectric Devices」、ACS Applied Materials & Interfaces、2025、Akihiro Nishida

カタログ：Catalog

マニュアル：Manual

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課題番号 * ：Issue No.
利用責任者：User Manager
利用者：User
申込日：Application Date	2025/05/19
初回講習料：Initial Training Fee
連絡事項：Note