オープンファシリティ

【集束イオンビーム加工観察装置】

Focused Ion Beam System

メーカー／型番：日立／FB-2100

AP-200042

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状態：Status

稼働中 In Service

予約状況
Equipment Availability

設置場所Location

建屋・棟：Building	創成科学研究棟
住所：Address	〒001-0021 北海道札幌市北区北２１条西１０丁目
フロア：Floor	01-303

メーカー／型番：Manufacturer／Model Name

日立／FB-2100

カテゴリー：Category

成膜・加工装置

装置管理者：Instrument Manager

ナノテク連携室
nano-support-GFC@es.hokudai.ac.jp
0117069340

装置所属／装置供出者：Affiliated Department／Instrument Provider

電子科学研究所
Advanced Research Infrastructure for Materials and Nanotechnology

利用料金：Fee

初回講習料Initial Training Fee	学外（他大学・公的機関）		￥22,000
	学外（その他・民間企業）		￥22,000

予約利用料Facility Usage Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥2,900 / 時間
		データあり	￥2,300 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥6,000 / 時間
		データあり	￥4,600 / 時間

技術代行料Processing Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥11,700 / 時間
		データあり	￥11,100 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥14,800 / 時間
		データあり	￥13,400 / 時間

技術補助料Technical Assisting Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥7,300 / 時間
		データあり	￥6,700 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥10,400 / 時間
		データあり	￥9,000 / 時間

技術支援料（通常）Technical Support Fee (Normal)	学外（他大学・公的機関）		￥4,400 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥4,400 / 時間

技術支援料（高度）Technical Support Fee (High)	学外（他大学・公的機関）		￥8,800 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥8,800 / 時間

技術相談料Technical Consulting Fee	学外（他大学・公的機関）		￥11,000 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥11,000 / 時間

備考：Note	マテリアル先端リサーチインフラ事業装置（ARIM装置番号：HK-403）
概要・性能：Performance	イオンビームにより試料の微細加工を行う装置。10-40kVの可変加速電圧により、粗加工、及び仕上げ加工の両方が可能になっている。
仕様：Specs	・加速電圧:Ga 　10kV～40kV　・最高倍率:×280,000　・SIM分解能:6.0nm　・3次元ホルダー及びコントローラー、マイクロサンプリング機構付属
参考論文：Scholarly Articles	「Atomic Layer Deposition of Hafnium–Zirconium-Oxide Films Using a Liquid Cocktail Precursor Containing Hf(dmap)4 and Zr(dmap)4 for Ferroelectric Devices」、ACS Applied Materials & Interfaces、2025、Akihiro Nishida 「Growth of α-Al2O3 layer involving abnormal oxides in FeCrAl alloy tube fabricated by WEDM process and electrical insulating performance in fusion reactor blanket」、Surface and Coatings Technology、Volume 493, Part 2 , 15 October 2024, 13、2022、Ryuhei Muto 「Solid-State Electrochemical Thermal Transistors with Strontium Cobaltite – Strontium Ferrite Solid Solutions as the Active Layers」、ACS Appl. Mater. Interfaces、2023、Zhiping Bian 「Fabrication and Thermoelectric Properties of Freestanding Ba1/3CoO2 Single Crystalline Films」、ACS Appl. Electron. Mater.、2023、Kungwan Kang 「Liquid-Cell Transmission Electron Microscopy Observation of Two-Step Collapse Dynamics of Silicon Nanopillars on Evaporation of Propan-2-ol: Implications for Semiconductor Integration Density」、ACS APPLIED NANO MATERIALS 巻:5 号:7、9495–9502、2022、Yuta Sasaki

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課題番号 * ：Issue No.
利用責任者：User Manager
利用者：User
申込日：Application Date	2025/05/02
初回講習料：Initial Training Fee
連絡事項：Note