オープンファシリティ

【イオンビームスパッタ装置】

ion beam lithography system

メーカー／型番：アルバック／IBS-6000S

AP-200009

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状態：Status

稼働中 In Service

予約状況
Equipment Availability

メーカー／型番：Manufacturer／Model Name

アルバック／IBS-6000S

カテゴリー：Category

成膜・加工装置

装置管理者：Instrument Manager

ナノテク連携室
nano-support-GFC@es.hokudai.ac.jp
0117069340

装置所属／装置供出者：Affiliated Department／Instrument Provider

電子科学研究所
Advanced Research Infrastructure for Materials and Nanotechnology

利用料金：Fee

初回講習料Initial Training Fee	学外（他大学・公的機関）		￥13,200
	学外（その他・民間企業）		￥13,200

予約利用料Facility Usage Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥1,900 / 時間
		データあり	￥1,500 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥2,600 / 時間
		データあり	￥2,000 / 時間

技術代行料Processing Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥10,700 / 時間
		データあり	￥10,300 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥11,400 / 時間
		データあり	￥10,800 / 時間

技術補助料Technical Assisting Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥6,300 / 時間
		データあり	￥5,900 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥7,000 / 時間
		データあり	￥6,400 / 時間

技術支援料（通常）Technical Support Fee (Normal)	学外（他大学・公的機関）		￥4,400 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥4,400 / 時間

技術支援料（高度）Technical Support Fee (High)	学外（他大学・公的機関）		￥8,800 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥8,800 / 時間

技術相談料Technical Consulting Fee	学外（他大学・公的機関）		￥11,000 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥11,000 / 時間

備考：Note	マテリアル先端リサーチインフラ事業装置（ARIM装置番号：HK-612）
概要・性能：Performance	Arイオンの照射により金属等を成膜する装置。
仕様：Specs	・試料種類:4元、Ni,Cr,SiO2、W-Si他・基板サイズ:通常φ50mm×厚さ最大20mm ・基板加熱:最大600℃±25℃

カタログ：Catalog

なし

マニュアル：Manual

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課題番号 * ：Issue No.
利用責任者：User Manager
利用者：User
申込日：Application Date	2025/05/20
初回講習料：Initial Training Fee
連絡事項：Note