オープンファシリティ

【液体ソースプラズマCVD装置】

Plasma-enhanced liquid source chemical vapor deposition system

メーカー／型番：サムコ／PD-10C1

AP-200007

戻るBack

お問い合わせContact

状態：Status

稼働中 In Service

予約状況
Equipment Availability

メーカー／型番：Manufacturer／Model Name

サムコ／PD-10C1

カテゴリー：Category

クリーンルーム内設置装置／創成棟内

装置管理者：Instrument Manager

ナノテク連携室
nano-support-GFC@es.hokudai.ac.jp
0117069340

装置所属／装置供出者：Affiliated Department／Instrument Provider

電子科学研究所
Advanced Research Infrastructure for Materials and Nanotechnology

利用料金：Fee

初回講習料Initial Training Fee	学外（他大学・公的機関）		￥22,000
	学外（その他・民間企業）		￥22,000

予約利用料Facility Usage Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥800 / 時間
		データあり	￥600 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥1,000 / 時間
		データあり	￥800 / 時間

技術代行料Processing Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥9,600 / 時間
		データあり	￥9,400 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥9,800 / 時間
		データあり	￥9,600 / 時間

技術補助料Technical Assisting Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥5,200 / 時間
		データあり	￥5,000 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥5,400 / 時間
		データあり	￥5,200 / 時間

技術支援料（通常）Technical Support Fee (Normal)	学外（他大学・公的機関）		￥4,400 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥4,400 / 時間

技術支援料（高度）Technical Support Fee (High)	学外（他大学・公的機関）		￥8,800 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥8,800 / 時間

技術相談料Technical Consulting Fee	学外（他大学・公的機関）		￥11,000 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥11,000 / 時間

備考：Note	マテリアル先端リサーチインフラ事業装置（ARIM装置番号：HK-614）
概要・性能：Performance	基板上にSiO2膜を形成することが可能である。
仕様：Specs	・試料種類:SiO2他・キャリアガス:N2、He、Ar、H2 ・試料サイズ:最大4インチ
説明：Guide	電子科学研究所クリーンルーム(創成棟1F)の継続利用について R6年度よりGFC総合システムより受け付けます。下記のリンク先をご確認いただき、お手続きをお願いいたします。 https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/instruments/1582

カタログ：Catalog

なし

マニュアル：Manual

の利用のため、下記の内容で講習を申し込みます。よろしいですか？ Apply with the following information. OK?
課題番号 * ：Issue No.
利用責任者：User Manager
利用者：User
申込日：Application Date	2025/05/20
初回講習料：Initial Training Fee
連絡事項：Note