オープンファシリティ

【イオンビームスパッタ装置】

ion beam lithography system

メーカー／型番：アルバック／IBS-6000S

AP-100095

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状態：Status

稼働中 In Service

予約状況
Equipment Availability

メーカー／型番：Manufacturer／Model Name

アルバック／IBS-6000S
ULVAC／IBS-6000S

カテゴリー：Category

成膜・加工装置

装置管理者：Instrument Manager

ナノテク連携室
nano-support-GFC@es.hokudai.ac.jp
0117069340

装置所属／装置供出者：Affiliated Department／Instrument Provider

電子科学研究所／電子科学研究所
Research Institute for Electronic Science

利用料金：Fee

初回講習料Initial Training Fee	学外（他大学・公的機関）	￥13,200
	学外（その他・民間企業）	￥13,200

予約利用料Facility Usage Fee	学外（他大学・公的機関）	￥2,800 / 時間
	学外（その他・民間企業）	￥3,700 / 時間

材料分析・加工料Material Analysis/Processing Fee	学外（他大学・公的機関）	￥11,600 / 時間
	学外（その他・民間企業）	￥12,500 / 時間

技術相談料Technical Consulting Fee	学外（他大学・公的機関）	￥11,000 / 時間
	学外（その他・民間企業）	￥14,300 / 時間

備考：Note	利用はマテリアル先端リサーチインフラ事業装置から申込ください。
概要・性能：Performance	Arイオンの照射により金属等を成膜する装置。
仕様：Specs	基板サイズ:通常φ50mm×厚さ最大20mm 基板加熱:600℃±25℃ 熱電対付ダミー金属基板(φ150mm×1.0mmt)

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課題番号 * ：Issue No.
利用責任者：User Manager
利用者：User
申込日：Application Date	2025/05/02
初回講習料：Initial Training Fee
連絡事項：Note