オープンファシリティ

【反応性イオンエッチング装置】

INDUCTIVELY COUPLED PLASMA ETCHING SYSTEM

メーカー／型番：サムコ／RIE-101iPH

AP-100084

戻るBack

お問い合わせContact

状態：Status

稼働中 In Service

予約状況
Equipment Availability

メーカー／型番：Manufacturer／Model Name

サムコ／RIE-101iPH
SAMCO／RIE-101iPH

カテゴリー：Category

クリーンルーム内設置装置

装置管理者：Instrument Manager

ナノテク連携室
nano-support-GFC@es.hokudai.ac.jp
0117069340

装置所属／装置供出者：Affiliated Department／Instrument Provider

電子科学研究所／電子科学研究所
Research Institute for Electronic Science

利用料金：Fee

初回講習料（基本料）Initial Training Fee	学外（他大学・公的機関）	￥13,200
	学外（その他・民間企業）	￥13,200

予約利用料Facility Usage Fee	学外（他大学・公的機関）	￥6,200 / 時間
	学外（その他・民間企業）	￥8,000 / 時間

材料分析・加工料Material Analysis/Processing Fee	学外（他大学・公的機関）	￥15,000 / 時間
	学外（その他・民間企業）	￥16,800 / 時間

技術相談料Technical Consulting Fee	学外（他大学・公的機関）	￥11,000 / 時間
	学外（その他・民間企業）	￥14,300 / 時間

備考：Note	利用はマテリアル先端リサーチインフラ事業装置から申込ください。
概要・性能：Performance	セラミックス、金属のドライエッチング及び微細加工が可能。
仕様：Specs		[仕様] * 反応室:SUS304製,内径φ309.5mm * 基板ステージ:SUS304製,φ106mm(静電チャック使用時はAl製) * ガス導入系:マスフローコントローラ 4系列使用できるガス種:フッ素系ガス・塩素系ガス

の利用のため、下記の内容で講習を申し込みます。よろしいですか？ Apply with the following information. OK?
課題番号 * ：Issue No.
利用責任者：User Manager
利用者：User
申込日：Application Date	2025/06/05
初回講習料（基本料）：Initial Training Fee
連絡事項：Note