| メーカー／型番：Manufacturer／Model Name |
アルバック／NLD-500
ULVAC／NLD-500
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| カテゴリー：Category |
クリーンルーム内設置装置 |
| 装置管理者：Instrument Manager |
ナノテク連携室
nano-support-GFC@es.hokudai.ac.jp
0117069340
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| 装置所属／装置供出者：Affiliated Department／Instrument Provider |
電子科学研究所／電子科学研究所
Research Institute for Electronic Science
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| 利用料金：Fee |
| 初回講習料（基本料）Initial Training Fee |
学外（他大学・公的機関） |
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￥13,200 |
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学外（その他・民間企業） |
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￥13,200 |
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| 予約利用料Facility Usage Fee |
学外（他大学・公的機関） |
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￥2,500 / 時間 |
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学外（その他・民間企業） |
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￥3,300 / 時間 |
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| 材料分析・加工料Material Analysis/Processing Fee |
学外（他大学・公的機関） |
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￥11,300 / 時間 |
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学外（その他・民間企業） |
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￥12,100 / 時間 |
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| 技術相談料Technical Consulting Fee |
学外（他大学・公的機関） |
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￥11,000 / 時間 |
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学外（その他・民間企業） |
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￥14,300 / 時間 |
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| 備考：Note |
利用はマテリアル先端リサーチインフラ事業装置から申込ください。 |
| 概要・性能：Performance |
様々な誘電体材料の高速エッチングが可能になる。 |
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| 仕様：Specs |
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[仕様]
* 加工基板面積:4inchφ(メカニカルチャック)
* 使用ガス:CHF3,C3F8,SF6,Cl2,O2,Ar,He,N2,Air
* 基板温度制御用チラー:外置き1台(5-30℃)
* 冷却水:水圧:0.2-0.4MPa,水温:20-25℃,水量:14L/min以上 |
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