オープンファシリティ

【分子線エピタキシー装置】

Molecular epitaxy system

メーカー／型番：Riber／32P

AP-100059

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状態：Status

稼働中 In Service

予約状況
Equipment Availability

メーカー／型番：Manufacturer／Model Name

Riber／32P
Riber／32P

カテゴリー：Category

クリーンルーム内設置装置

装置管理者：Instrument Manager

笹倉弘理
hirotaka@cris.hokudai.ac.jp

装置所属／装置供出者：Affiliated Department／Instrument Provider

工学部／工学部
Faculty of Engineering

利用料金：Fee

初回講習料Initial Training Fee	学外（他大学・公的機関）	￥220,000
	学外（その他・民間企業）	￥220,000

予約利用料Facility Usage Fee	学外（他大学・公的機関）	￥1,300 / 時間
	学外（その他・民間企業）	￥1,700 / 時間

技術相談料Technical Consulting Fee	学外（他大学・公的機関）	￥11,000 / 時間
	学外（その他・民間企業）	￥14,300 / 時間

概要・性能：Performance

超高真空中で、半導体結晶のエピタキシャル成長を行う装置。GaAs基板上に金属ソース料からの分子線を照射しGaAs/AlGaAs量子井戸やInAs量子ドットなどのIII－V族半導体を成長できる（シュラウドは液体窒素冷却）。

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課題番号 * ：Issue No.
利用責任者：User Manager
利用者：User
申込日：Application Date	2025/05/29
初回講習料：Initial Training Fee
連絡事項：Note