オープンファシリティ

【液体ソースプラズマCVD装置】

Plasma-enhanced liquid source chemical vapor deposition system

メーカー／型番：サムコ／PD-10C１

AP-100034

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状態：Status

稼働中 In Service

予約状況
Equipment Availability

メーカー／型番：Manufacturer／Model Name

サムコ／PD-10C１
SAMCO／PD-10C１

カテゴリー：Category

クリーンルーム内設置装置

装置管理者：Instrument Manager

ナノテク連携室
nano-support-GFC@es.hokudai.ac.jp
0117069340

装置所属／装置供出者：Affiliated Department／Instrument Provider

電子科学研究所／電子科学研究所
Research Institute for Electronic Science

利用料金：Fee

初回講習料（基本料）Initial Training Fee	学外（他大学・公的機関）	￥22,000
	学外（その他・民間企業）	￥22,000

予約利用料Facility Usage Fee	学外（他大学・公的機関）	￥1,100 / 時間
	学外（その他・民間企業）	￥1,400 / 時間

材料分析・加工料Material Analysis/Processing Fee	学外（他大学・公的機関）	￥9,900 / 時間
	学外（その他・民間企業）	￥10,200 / 時間

技術相談料Technical Consulting Fee	学外（他大学・公的機関）	￥11,000 / 時間
	学外（その他・民間企業）	￥14,300 / 時間

受託分析料金：Material Analysis/Processing Fee

材料分析・加工料参照

備考：Note	利用はマテリアル先端リサーチインフラ事業装置から申込ください。
概要・性能：Performance	基板上にSiO2膜を形成することが可能である。

の利用のため、下記の内容で講習を申し込みます。よろしいですか？ Apply with the following information. OK?
課題番号 * ：Issue No.
利用責任者：User Manager
利用者：User
申込日：Application Date	2025/06/05
初回講習料（基本料）：Initial Training Fee
連絡事項：Note