オープンファシリティ

【ICP高密度プラズマエッチング装置】

Inductively Coupled Plasma high-density etching facility

メーカー／型番：サムコ／RIE-101iHS

AP-100031

戻るBack

お問い合わせContact

状態：Status

稼働中 In Service

予約状況
Equipment Availability

メーカー／型番：Manufacturer／Model Name

サムコ／RIE-101iHS
SAMCO／RIE-101iHS

カテゴリー：Category

クリーンルーム内設置装置

装置管理者：Instrument Manager

ナノテク連携室
nano-support-GFC@es.hokudai.ac.jp
0117069340

装置所属／装置供出者：Affiliated Department／Instrument Provider

電子科学研究所／電子科学研究所
Research Institute for Electronic Science

利用料金：Fee

初回講習料Initial Training Fee	学外（他大学・公的機関）	￥13,200
	学外（その他・民間企業）	￥13,200

予約利用料Facility Usage Fee	学外（他大学・公的機関）	￥8,100 / 時間
	学外（その他・民間企業）	￥10,500 / 時間

材料分析・加工料Material Analysis/Processing Fee	学外（他大学・公的機関）	￥16,900 / 時間
	学外（その他・民間企業）	￥19,300 / 時間

技術相談料Technical Consulting Fee	学外（他大学・公的機関）	￥11,000 / 時間
	学外（その他・民間企業）	￥14,300 / 時間

受託分析料金：Material Analysis/Processing Fee

材料分析・加工料参照

備考：Note	利用はマテリアル先端リサーチインフラ事業装置から申込ください。
概要・性能：Performance	化合物材料のドライエッチングが可能である。
仕様：Specs		反応器 φ309.5mm 試料ステージ φ106mm ロードロック室 365X278mm ICP:13.56MHz.500W Bias:13.56MHz.300W

の利用のため、下記の内容で講習を申し込みます。よろしいですか？ Apply with the following information. OK?
課題番号 * ：Issue No.
利用責任者：User Manager
利用者：User
申込日：Application Date	2025/05/08
初回講習料：Initial Training Fee
連絡事項：Note