オープンファシリティ

【反応性イオンエッチング装置】

Reactive Ion Etching System

メーカー／型番：サムコ／RIE-10NRV

AP-100030

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状態：Status

稼働中 In Service

予約状況
Equipment Availability

メーカー／型番：Manufacturer／Model Name

サムコ／RIE-10NRV
SAMCO／RIE-10NRV

カテゴリー：Category

クリーンルーム内設置装置

装置管理者：Instrument Manager

ナノテク連携室
nano-support-GFC@es.hokudai.ac.jp
0117069340

装置所属／装置供出者：Affiliated Department／Instrument Provider

電子科学研究所／電子科学研究所
Research Institute for Electronic Science

利用料金：Fee

初回講習料（基本料）Initial Training Fee	学外（他大学・公的機関）	￥13,200
	学外（その他・民間企業）	￥13,200

予約利用料Facility Usage Fee	学外（他大学・公的機関）	￥5,700 / 時間
	学外（その他・民間企業）	￥7,400 / 時間

材料分析・加工料Material Analysis/Processing Fee	学外（他大学・公的機関）	￥14,500 / 時間
	学外（その他・民間企業）	￥16,200 / 時間

技術相談料Technical Consulting Fee	学外（他大学・公的機関）	￥11,000 / 時間
	学外（その他・民間企業）	￥14,300 / 時間

受託分析料金：Material Analysis/Processing Fee

材料分析・加工料参照

備考：Note	利用はマテリアル先端リサーチインフラ事業装置から申込ください。
概要・性能：Performance	SiO2,Si3N4絶縁膜のドライエッチングが可能である。
参考論文：Scholarly Articles	「Extending the potential of x-ray free-electron lasers to industrial applications-an initiatory attempt at coherent diffractive imaging on car-related nanomaterials」、JOURNAL OF PHYSICS B-ATOMIC MOLECULAR AND OPTICAL PHYSICS 巻: 48 号: 24、-、2015、Yoshida, R (Yoshida, Rikiya) 「Coherent diffraction imaging of non-isolated object with apodized illumination」、OPTICS EXPRESS 巻: 23 号: 22、28182-28190、2015、Khakurel, KP (Khakurel, Krishna P.) 「Synthesis of Janus-Like Gold Nanoparticles with Hydrophilic/Hydrophobic Faces by Surface Ligand Exchange and Their Self-Assemblies in Water」、LANGMUIR 巻: 31 号: 14、4054-4062、2015、Iida, R (Iida, Ryo) 「Imaging live cell in micro-liquid enclosure by X-ray laser diffraction」、NATURE COMMUNICATIONS 巻: 5、-、2014、Kimura, T (Kimura, Takashi)

の利用のため、下記の内容で講習を申し込みます。よろしいですか？ Apply with the following information. OK?
課題番号 * ：Issue No.
利用責任者：User Manager
利用者：User
申込日：Application Date	2025/06/07
初回講習料（基本料）：Initial Training Fee
連絡事項：Note