オープンファシリティ

【全自動真空蒸着装置】

Fully Automatic Steam-Infusion Device

メーカー／型番：エイブイシー／ADS-E86L

AP-200098

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状態：Status

メンテナンス中 Under Maintenance

予約状況
Equipment Availability

設置場所Location

建屋・棟：Building	創成科学研究棟
住所：Address	〒001-0021 北海道札幌市北区北２１条西１０丁目
フロア：Floor	01-101

メーカー／型番：Manufacturer／Model Name

エイブイシー／ADS-E86L
R-DEC Co., Ltd.／ADS-E86L

カテゴリー：Category

微細加工・表面加工装置／成膜装置
Microfabrication & Surface Processing Equipment／Film Formation and Deposition Equipment

装置管理者：Instrument Manager

ナノテク連携室

0117069340

装置所属／装置供出者：Affiliated Department／Instrument Provider

電子科学研究所
Advanced Research Infrastructure for Materials and Nanotechnology

利用料金：Fee

初回講習料（基本料）Initial Training Fee	学外（他大学・公的機関）		￥26,400
	学外（その他・民間企業）		￥26,400

予約利用料Facility Usage Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥9,300 / 時間
		データあり	￥7,300 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥14,900 / 時間
		データあり	￥11,600 / 時間

技術代行料Processing Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥18,100 / 時間
		データあり	￥16,100 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥23,700 / 時間
		データあり	￥20,400 / 時間

技術補助料Technical Assisting Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥13,700 / 時間
		データあり	￥11,700 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥19,300 / 時間
		データあり	￥16,000 / 時間

技術支援料（通常）Technical Support Fee (Normal)	学外（他大学・公的機関）		￥4,400 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥4,400 / 時間

技術支援料（高度）Technical Support Fee (High)	学外（他大学・公的機関）		￥8,800 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥8,800 / 時間

技術相談料Technical Consulting Fee	学外（他大学・公的機関）		￥11,000 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥11,000 / 時間

備考：Note	マテリアル先端リサーチインフラ事業装置（ARIM登録番号：HK-XXX）
概要・性能：Performance	高融点金属から半導体・酸化物等異種材料を積層した新材料デバイスの研究開発に最適な装置。大型の主排気真空ポンプを備え、高真空環境下での蒸着が可能。リフトオフ蒸着に最適な基板冷却機構を備えている。レシピ制御ソフトにより基板セット後は、全自動操作で多層膜蒸着などの成膜レシピ設定制御が可能。	Ideal equipment for R&D of novel device materials layered with dissimilar materials such as semiconductors and oxides over high-melting-point metals. Equipped with a large main exhaust vacuum pump, enabling deposition under high-vacuum conditions. Features a substrate cooling mechanism optimized for lift-off deposition. After substrate setup, recipe control software enables fully automated operation for film deposition recipe setting and control, including multi-layer film deposition.
仕様：Specs	チャンバー内寸　600×600×800 mm ※高真空脱ガス処理済み排気系　2100 L/sec TMP+Dryポンプ基板機構 φ8インチ対応水冷機構付(基板回転なし) 圧空作動式基板シャッター装備膜厚計 QCMセンサー（1ch）電子銃 6.4 kW 270°偏向 ※低レート蒸着も可能(0.1 Å/sec Au or Al) ルツボ容量12 ml×6連回転式ルツボ ※クロスコンタミ対策ハースライナー多重ハースライナー選択可能	Exhaust System: 2100 L/sec TMP+Dry pump Substrate Mechanism: φ8-inch compatible with water cooling mechanism (no substrate rotation) Equipped with pneumatic substrate shutter Film Thickness Gauge: QCM sensor (1ch) Electron Gun: 6.4 kW 270° deflection ※Low-rate deposition possible (0.1 ?/sec Au or Al) Crucible Capacity 12 ml × 6-station rotary crucible ※Cross-contamination countermeasures Hearth liner Multiple hearth liners selectable

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課題番号 * ：Issue No.
利用責任者：User Manager
利用者：User
申込日：Application Date	2026/04/16
初回講習料（基本料）：Initial Training Fee
連絡事項：Note