オープンファシリティ

【電子線/レーザー描画露光現像シミュレータ（ソフトウェア）】

Exposure and development simulation software (compatible with EB and laser drawing)

メーカー／型番：GenISys／BEAMER Pro

AP-200096

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状態：Status

稼働中 In Service

予約状況
Equipment Availability

メーカー／型番：Manufacturer／Model Name

GenISys／BEAMER Pro
GenISys／BEAMER Pro

カテゴリー：Category

微細加工・表面加工装置／その他の微細加工・表面加工装置
Microfabrication & Surface Processing Equipment／Other Microfabrication & Surface Processing System

装置管理者：Instrument Manager

ナノテク連携室

0117069340

装置所属／装置供出者：Affiliated Department／Instrument Provider

電子科学研究所
Advanced Research Infrastructure for Materials and Nanotechnology

利用料金：Fee

初回講習料（基本料）Initial Training Fee	学外（他大学・公的機関）		￥8,800
	学外（その他・民間企業）		￥8,800

予約利用料Facility Usage Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥1,700 / 時間
		データあり	￥1,300 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥3,300 / 時間
		データあり	￥2,600 / 時間

技術代行料Processing Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥10,500 / 時間
		データあり	￥10,100 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥12,100 / 時間
		データあり	￥11,400 / 時間

技術補助料Technical Assisting Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥6,100 / 時間
		データあり	￥5,700 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥7,700 / 時間
		データあり	￥7,000 / 時間

技術支援料（通常）Technical Support Fee (Normal)	学外（他大学・公的機関）		￥4,400 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥4,400 / 時間

技術支援料（高度）Technical Support Fee (High)	学外（他大学・公的機関）		￥8,800 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥8,800 / 時間

技術相談料Technical Consulting Fee	学外（他大学・公的機関）		￥11,000 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥11,000 / 時間

備考：Note	マテリアル先端リサーチインフラ事業装置（ARIM登録番号：HK-XXX）
概要・性能：Performance	GenISys　BEAMER等。電子線描画時に生じる近接効果を補正して設計通りのパターンを電子線で描画するためのパターン補正システム。グレースケール露光用のデータ生成が可能。	A pattern correction system that corrects the proximity effect that occurs during electron beam lithography to draw patterns as designed with an electron beam. It is capable of generating data for grayscale exposure.
仕様：Specs	BEAMER Pro Package BLT01	BEAMER Pro Package BLT01
説明：Guide	EB・レーザー描画に対応した露光・現像シミュレーションソフト	Exposure and development simulation software for EB and laser drawing

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課題番号 * ：Issue No.
利用責任者：User Manager
利用者：User
申込日：Application Date	2025/08/29
初回講習料（基本料）：Initial Training Fee
連絡事項：Note