オープンファシリティ

【プラズマ式原子層堆積装置】

Plasma Enhanced ALD system

メーカー／型番：サムコ／AD-230LP-H

AP-100329

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状態：Status

稼働中 In Service

予約状況
Equipment Availability

メーカー／型番：Manufacturer／Model Name

サムコ／AD-230LP-H
samco／AD-230LP-H

カテゴリー：Category

クリーンルーム内設置装置／創成棟内
／創成棟内

装置管理者：Instrument Manager

ナノテク連携室
nano-support-GFC@es.hokudai.ac.jp
0117069340

装置所属／装置供出者：Affiliated Department／Instrument Provider

電子科学研究所
Research Institute for Electronic Science

利用料金：Fee

初回講習料（基本料）Initial Training Fee	学外（他大学・公的機関）	￥35,200
	学外（その他・民間企業）	￥35,200

予約利用料Facility Usage Fee	学外（他大学・公的機関）	￥14,700 / 時間
	学外（その他・民間企業）	￥19,100 / 時間

材料分析・加工料Material Analysis/Processing Fee	学外（他大学・公的機関）	￥23,500 / 時間
	学外（その他・民間企業）	￥27,900 / 時間

技術相談料Technical Consulting Fee	学外（他大学・公的機関）	￥11,000 / 時間
	学外（その他・民間企業）	￥14,300 / 時間

概要・性能：Performance	有機金属原料および酸化剤を交互に反応室に供給し、表面反応のみで成膜する装置。
仕様：Specs	成膜材料：Al2O3他試料サイズ：最大8インチ
参考論文：Scholarly Articles	「Atomic Layer Deposition of Hafnium–Zirconium-Oxide Films Using a Liquid Cocktail Precursor Containing Hf(dmap)4 and Zr(dmap)4 for Ferroelectric Devices」、ACS Applied Materials & Interfaces、2025、Akihiro Nishida

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課題番号 * ：Issue No.
利用責任者：User Manager
利用者：User
申込日：Application Date	2025/06/06
初回講習料（基本料）：Initial Training Fee
連絡事項：Note