オープンファシリティ

【レーザー描画装置】

Laser Lithography System

メーカー／型番：ハイデルベルグ・インストルメンツ／DWL66HK

AP-100328

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状態：Status

稼働中 In Service

予約状況
Equipment Availability

メーカー／型番：Manufacturer／Model Name

ハイデルベルグ・インストルメンツ／DWL66HK
Heidelberg Instruments／DWL66HK

カテゴリー：Category

クリーンルーム内設置装置／創成棟内
／創成棟内

装置管理者：Instrument Manager

ナノテク連携室
nano-support-GFC@es.hokudai.ac.jp
0117069340

装置所属／装置供出者：Affiliated Department／Instrument Provider

電子科学研究所
Research Institute for Electronic Science

利用料金：Fee

初回講習料（基本料）Initial Training Fee	学外（他大学・公的機関）	￥35,200
	学外（その他・民間企業）	￥35,200

予約利用料Facility Usage Fee	学外（他大学・公的機関）	￥12,100 / 時間
	学外（その他・民間企業）	￥15,800 / 時間

材料分析・加工料Material Analysis/Processing Fee	学外（他大学・公的機関）	￥20,900 / 時間
	学外（その他・民間企業）	￥24,600 / 時間

技術相談料Technical Consulting Fee	学外（他大学・公的機関）	￥11,000 / 時間
	学外（その他・民間企業）	￥14,300 / 時間

概要・性能：Performance	レーザー光を照射することによりフォトレジストにパターンを形成する装置
仕様：Specs	サンプルサイズ：5mm～8インチ角、厚み12mmまでレーザー波長：405nm WriteMode：HiRes（0.3ミクロン）、II（0.8ミクロン）、iV（2ミクロン）グレースケールモード（255階調）バックサイドアライメント有り

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課題番号 * ：Issue No.
利用責任者：User Manager
利用者：User
申込日：Application Date	2025/06/06
初回講習料（基本料）：Initial Training Fee
連絡事項：Note