オープンファシリティ

【ジェントルミル(低エネルギーイオンミリング装置)】

GENTLE MILL 3 HI

メーカー／型番：TECHNOORG LINDA／IV-８

AP-100295

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お問い合わせContact

状態：Status

稼働中 In Service

予約状況
Equipment Availability

建屋・棟：Building	工学研究院材料化学棟
フロア：Floor	1F MC-113

メーカー／型番：Manufacturer／Model Name

TECHNOORG LINDA／IV-８
TECHNOORG - LINDA Ltd. Co.／IV-８

カテゴリー：Category

成膜・加工装置

装置管理者：Instrument Manager

ナノ・マイクロマテリアル分析研究室
info-nma-of@eng.hokudai.ac.jp
0117066363

装置所属／装置供出者：Affiliated Department／Instrument Provider

工学部
Faculty of Engineering

利用料金：Fee

初回講習料Initial Training Fee	学外（他大学・公的機関）	￥35,200
	学外（その他・民間企業）	￥35,200

予約利用料Facility Usage Fee	学外（他大学・公的機関）	￥2,700 / 時間
	学外（その他・民間企業）	￥3,500 / 時間

材料分析・加工料Material Analysis/Processing Fee	学外（他大学・公的機関）	￥11,500 / 時間
	学外（その他・民間企業）	￥12,300 / 時間

技術相談料Technical Consulting Fee	学外（他大学・公的機関）	￥11,000 / 時間
	学外（その他・民間企業）	￥14,300 / 時間

概要・性能：Performance	300V以下の極低エネルギーから低エネルギー2kVまで安定で制御されたブロードビーム(約φ1.5 mm)によるイオン研磨を行うことができ、透過電子顕微鏡試料の前処理に用いられます。
仕様：Specs	・イオン銃：熱陰極式・加速電圧：100 V ~ 2 kV ・ビーム径(FWHM)：750~ 1,200μm ・最大イオンビーム電流密度：10 mA/cm2 ・ビームカレント：5 ~ 80 μA ・観察：x50 ~ x400 CCDカメラ
説明：Guide	＊取り扱いが難しいため、学外利用については、機器分析受託サービスのみご利用可能です。

の利用のため、下記の内容で講習を申し込みます。よろしいですか？ Apply with the following information. OK?
課題番号 * ：Issue No.
利用責任者：User Manager
利用者：User
申込日：Application Date	2025/05/07
初回講習料：Initial Training Fee
連絡事項：Note