オープンファシリティ

【シリコン深堀りエッチング装置】

Silicon Deep Reactive Ion Etching equipment

メーカー／型番：SPPテクノロジーズ／APX-ASE-Pegasus-Polestar

AP-200073

戻るBack

お問い合わせContact

状態：Status

メンテナンス中 Under Maintenance

予約状況
Equipment Availability

メーカー／型番：Manufacturer／Model Name

SPPテクノロジーズ／APX-ASE-Pegasus-Polestar
SPP Technologies／APX-ASE-Pegasus-Polestar

カテゴリー：Category

クリーンルーム内設置装置／創成棟内

装置管理者：Instrument Manager

ナノテク連携室
nano-support-GFC@es.hokudai.ac.jp
0117069340

装置所属／装置供出者：Affiliated Department／Instrument Provider

電子科学研究所
Advanced Research Infrastructure for Materials and Nanotechnology

利用料金：Fee

初回講習料Initial Training Fee	学外（他大学・公的機関）		￥35,200
	学外（その他・民間企業）		￥35,200

予約利用料Facility Usage Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥5,500 / 時間
		データあり	￥4,300 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥12,200 / 時間
		データあり	￥9,500 / 時間

技術代行料Processing Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥14,300 / 時間
		データあり	￥13,100 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥21,000 / 時間
		データあり	￥18,300 / 時間

技術補助料Technical Assisting Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥9,900 / 時間
		データあり	￥8,700 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥16,600 / 時間
		データあり	￥13,900 / 時間

技術支援料（通常）Technical Support Fee (Normal)	学外（他大学・公的機関）		￥4,400 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥4,400 / 時間

技術支援料（高度）Technical Support Fee (High)	学外（他大学・公的機関）		￥8,800 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥8,800 / 時間

技術相談料Technical Consulting Fee	学外（他大学・公的機関）		￥11,000 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥11,000 / 時間

備考：Note	マテリアル先端リサーチインフラ事業装置（ARIM装置番号：HK-624）
概要・性能：Performance	ボッシュプロセスを用いることによりSiの深掘りエッチングを行う装置
仕様：Specs	"・使用ガス：SF6,C4F8 ・基板サイズ：小片～4インチΦ"
説明：Guide	電子科学研究所クリーンルーム(創成棟1F)の継続利用について R6年度よりGFC総合システムより受け付けます。下記のリンク先をご確認いただき、お手続きをお願いいたします。 https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/instruments/1582

カタログ：Catalog

なし

マニュアル：Manual

の利用のため、下記の内容で講習を申し込みます。よろしいですか？ Apply with the following information. OK?
課題番号 * ：Issue No.
利用責任者：User Manager
利用者：User
申込日：Application Date	2025/05/15
初回講習料：Initial Training Fee
連絡事項：Note