オープンファシリティ

【ICP高密度プラズマエッチング装置】

Inductively Coupled Plasma high-density etching facility

メーカー／型番：サムコ／RIE-101iHS

AP-200067

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お問い合わせContact

状態：Status

稼働中 In Service

予約状況
Equipment Availability

メーカー／型番：Manufacturer／Model Name

サムコ／RIE-101iHS

カテゴリー：Category

クリーンルーム内設置装置／創成棟内
／創成棟内

装置管理者：Instrument Manager

ナノテク連携室
nano-support-GFC@es.hokudai.ac.jp
0117069340

装置所属／装置供出者：Affiliated Department／Instrument Provider

電子科学研究所
Advanced Research Infrastructure for Materials and Nanotechnology

利用料金：Fee

初回講習料（基本料）Initial Training Fee	学外（他大学・公的機関）		￥13,200
	学外（その他・民間企業）		￥13,200

予約利用料Facility Usage Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥2,400 / 時間
		データあり	￥1,900 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥7,300 / 時間
		データあり	￥5,700 / 時間

技術代行料Processing Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥11,200 / 時間
		データあり	￥10,700 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥16,100 / 時間
		データあり	￥14,500 / 時間

技術補助料Technical Assisting Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥6,800 / 時間
		データあり	￥6,300 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥11,700 / 時間
		データあり	￥10,100 / 時間

技術支援料（通常）Technical Support Fee (Normal)	学外（他大学・公的機関）		￥4,400 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥4,400 / 時間

技術支援料（高度）Technical Support Fee (High)	学外（他大学・公的機関）		￥8,800 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥8,800 / 時間

技術相談料Technical Consulting Fee	学外（他大学・公的機関）		￥11,000 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥11,000 / 時間

備考：Note	マテリアル先端リサーチインフラ事業装置（ARIM装置番号：HK-619）
概要・性能：Performance	シリコン及び化合物半導体などの高精度のエッチングが可能。
仕様：Specs	・使用ガス:Cl2, BCl3, Ar, O2 ・試料サイズ:最大4インチ
説明：Guide	電子科学研究所クリーンルーム(創成棟1F)の継続利用について R6年度よりGFC総合システムより受け付けます。下記のリンク先をご確認いただき、お手続きをお願いいたします。 https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/instruments/1582

カタログ：Catalog

なし

マニュアル：Manual

の利用のため、下記の内容で講習を申し込みます。よろしいですか？ Apply with the following information. OK?
課題番号 * ：Issue No.
利用責任者：User Manager
利用者：User
申込日：Application Date	2025/06/06
初回講習料（基本料）：Initial Training Fee
連絡事項：Note