オープンファシリティ

【超高速スキャン高精度電子ビーム露光装置 130kV】

Ultra-high speed scanning electron beam lithography system 130kV

メーカー／型番：エリオニクス／ELS-F130HM

AP-200059

状態：Status

稼働中 In Service

予約状況
Equipment Availability

メーカー／型番：Manufacturer／Model Name

エリオニクス／ELS-F130HM

カテゴリー：Category

微細加工・表面加工装置／電子線描画装置(EB)
Microfabrication & Surface Processing Equipment／Electron Beam Lithography System

装置管理者：Instrument Manager

ナノテク連携室

0117069340

装置所属／装置供出者：Affiliated Department／Instrument Provider

電子科学研究所
Advanced Research Infrastructure for Materials and Nanotechnology

利用料金：Fee

初回講習料（基本料）Initial Training Fee	学外（他大学・公的機関）		￥35,200
	学外（その他・民間企業）		￥35,200

予約利用料Facility Usage Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥12,300 / 時間
		データあり	￥9,600 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥37,700 / 時間
		データあり	￥29,300 / 時間

技術代行料Processing Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥21,100 / 時間
		データあり	￥18,400 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥46,500 / 時間
		データあり	￥38,100 / 時間

技術補助料Technical Assisting Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥16,700 / 時間
		データあり	￥14,000 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥42,100 / 時間
		データあり	￥33,700 / 時間

技術支援料（通常）Technical Support Fee (Normal)	学外（他大学・公的機関）		￥4,400 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥4,400 / 時間

技術支援料（高度）Technical Support Fee (High)	学外（他大学・公的機関）		￥8,800 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥8,800 / 時間

技術相談料Technical Consulting Fee	学外（他大学・公的機関）		￥11,000 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥11,000 / 時間

備考：Note	マテリアル先端リサーチインフラ事業装置（ARIM装置番号：HK-603）
概要・性能：Performance	特徴クロック数の向上により、ELS-F125よりも高速に描画が可能。
仕様：Specs	・電子銃:ZrO/W熱電界放射型・加速電圧:130kV ・試料サイズ:最大8インチ対応(特徴からは削除)。マルチピース試料ホルダにより小片サンプルにも対応
説明：Guide	電子科学研究所クリーンルーム(創成棟1F)の継続利用について R6年度よりGFC総合システムより受け付けます。下記のリンク先をご確認いただき、お手続きをお願いいたします。 https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/instruments/1582

カタログ：Catalog

なし

マニュアル：Manual

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課題番号 * ：Issue No.
利用責任者：User Manager
利用者：User
申込日：Application Date	2026/05/08
初回講習料（基本料）：Initial Training Fee
連絡事項：Note