オープンファシリティ

【X線回折装置】

High-intensity X-rays generating equipment

メーカー／型番：リガク／Smart Lab

AP-100139

状態：Status

稼働中 In Service

予約状況
Equipment Availability

設置場所Location

建屋・棟：Building	創成科学研究棟
住所：Address	〒001-0021 北海道札幌市北区北２１条西１０丁目
フロア：Floor	01-217

メーカー／型番：Manufacturer／Model Name

リガク／Smart Lab
Rigaku／Smart Lab

カテゴリー：Category

X線関連装置／X線回折装置
X-ray Related Equipment／X-ray Diffractometer (XRD)

装置管理者：Instrument Manager

GFCstaff（3rd_mate）

0117069230

装置所属／装置供出者：Affiliated Department／Instrument Provider

総合研究基盤連携センター　機器分析・オープンファシリティユニット／創成研究機構
GFC Instrumental Analysis and Open Facility Unit

利用料金：Fee

初回講習料（基本料）Initial Training Fee	学外（他大学・公的機関）	￥44,000
	学外（その他・民間企業）	￥44,000

予約利用料Facility Usage Fee	学外（他大学・公的機関）	￥11,200 / 時間
	学外（その他・民間企業）	￥14,600 / 時間

技術相談料Technical Consulting Fee	学外（他大学・公的機関）	￥11,000 / 時間
	学外（その他・民間企業）	￥14,300 / 時間

受託分析料金：Material Analysis/Processing Fee

材料分析・加工料参照

概要・性能：Performance	高輝度Ｘ線源及び In-Planeアームを搭載した試料水平配置高精度ゴニオメータを使用したＸ線回折装置であり、粉末試料測定に適した集中法光学系，薄膜試料の測定に適している多層膜ミラーを用いた平行ビーム光学系によるＸ線反射率測定，逆格子マップ測定，ロッキングカーブ測定などを簡単なユニット交換で組み替えて利用でき、インプレーンアームの搭載により、極薄膜の評価や完全極点測定が可能なシステムである。
参考論文：Scholarly Articles	「Atomic Layer Deposition of Hafnium–Zirconium-Oxide Films Using a Liquid Cocktail Precursor Containing Hf(dmap)4 and Zr(dmap)4 for Ferroelectric Devices」、ACS Applied Materials & Interfaces、2025、Akihiro Nishida 「Synthesis of ZrN–SiO2 core–shell particles by a sol–gel process and use as particle-based structured coloring material」、Journal of the American Ceramic Society、2024、Shinji Noguchi 「Geochemical identification of particulate lead pollution in shallow groundwater in inhabited areas in Kabwe, Zambia」、Applied Geochemistry Volume 139 Article 105215、2022、Kazuhiro Toyoda 「Synthesizing biochar-based fertilizer with sustained phosphorus and potassium release: Co-pyrolysis of nutrient-rich chicken manure and Ca-bentonite」、Science of the Total Environment、153509、2022、Mahmudul Islam Piash 「Release of essential plant nutrients from manure- and wood-based biochars」、Geoderma、1-12、2021、Mahmudul Islam Piash

重要なお知らせ（Important News）

2025/11/04 ★ 装置PCおよびデーターベースの更新について

2025/11/04 ★ ネットワークライセンスを使用してデータ処理されている方へ（学内_札幌キャンパス内限定）

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利用責任者：User Manager
利用者：User
申込日：Application Date	2026/05/08
初回講習料（基本料）：Initial Training Fee
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