オープンファシリティ

【反応性イオンエッチング装置 RIE-101iPH】

INDUCTIVELY COUPLED PLASMA ETCHING SYSTEM

メーカー／型番：サムコ／RIE-101iPH

AP-200012

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状態：Status

稼働中 In Service

予約状況
Equipment Availability

メーカー／型番：Manufacturer／Model Name

サムコ／RIE-101iPH

カテゴリー：Category

クリーンルーム内設置装置／創成棟内

装置管理者：Instrument Manager

ナノテク連携室
nano-support-GFC@es.hokudai.ac.jp
0117069340

装置所属／装置供出者：Affiliated Department／Instrument Provider

電子科学研究所
Advanced Research Infrastructure for Materials and Nanotechnology

利用料金：Fee

初回講習料Initial Training Fee	学外（他大学・公的機関）		￥13,200
	学外（その他・民間企業）		￥13,200

予約利用料Facility Usage Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥2,900 / 時間
		データあり	￥2,200 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥5,500 / 時間
		データあり	￥4,300 / 時間

技術代行料Processing Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥11,700 / 時間
		データあり	￥11,000 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥14,300 / 時間
		データあり	￥13,100 / 時間

技術補助料Technical Assisting Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥7,300 / 時間
		データあり	￥6,600 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥9,900 / 時間
		データあり	￥8,700 / 時間

技術支援料（通常）Technical Support Fee (Normal)	学外（他大学・公的機関）		￥4,400 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥4,400 / 時間

技術支援料（高度）Technical Support Fee (High)	学外（他大学・公的機関）		￥8,800 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥8,800 / 時間

技術相談料Technical Consulting Fee	学外（他大学・公的機関）		￥11,000 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥11,000 / 時間

備考：Note	マテリアル先端リサーチインフラ事業装置（ARIM装置番号：HK-620）
概要・性能：Performance	シリコン及び各種金属薄膜、化合物半導体などの高精度のエッチングが可能。
仕様：Specs	・使用ガス:SF6、C4F8、Ar、O2、CHF3、C3F8 ・試料サイズ:最大4インチ
説明：Guide	電子科学研究所クリーンルーム(創成棟1F)の継続利用について R6年度よりGFC総合システムより受け付けます。下記のリンク先をご確認いただき、お手続きをお願いいたします。 https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/instruments/1582

カタログ：Catalog

マニュアル：Manual

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課題番号 * ：Issue No.
利用責任者：User Manager
利用者：User
申込日：Application Date	2025/05/10
初回講習料：Initial Training Fee
連絡事項：Note