オープンファシリティ

【レーザー描画装置】

Laser Direct Lithography System

メーカー／型番：ネオアーク／DDB-201-200

AP-200004

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状態：Status

停止中 Out of Service

予約状況
Equipment Availability

メーカー／型番：Manufacturer／Model Name

ネオアーク／DDB-201-200

カテゴリー：Category

クリーンルーム内設置装置／創成棟内
／創成棟内

装置管理者：Instrument Manager

ナノテク連携室
nano-support-GFC@es.hokudai.ac.jp
0117069340

装置所属／装置供出者：Affiliated Department／Instrument Provider

電子科学研究所
Advanced Research Infrastructure for Materials and Nanotechnology

利用料金：Fee

初回講習料（基本料）Initial Training Fee	学外（他大学・公的機関）		￥22,000
	学外（その他・民間企業）		￥22,000

予約利用料Facility Usage Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥1,100 / 時間
		データあり	￥900 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥3,800 / 時間
		データあり	￥3,000 / 時間

技術代行料Processing Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥9,900 / 時間
		データあり	￥9,700 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥12,600 / 時間
		データあり	￥11,800 / 時間

技術補助料Technical Assisting Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥5,500 / 時間
		データあり	￥5,300 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥8,200 / 時間
		データあり	￥7,400 / 時間

技術支援料（通常）Technical Support Fee (Normal)	学外（他大学・公的機関）		￥4,400 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥4,400 / 時間

技術支援料（高度）Technical Support Fee (High)	学外（他大学・公的機関）		￥8,800 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥8,800 / 時間

技術相談料Technical Consulting Fee	学外（他大学・公的機関）		￥11,000 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥11,000 / 時間

備考：Note	マテリアル先端リサーチインフラ事業装置（ARIM装置番号：HK-605）
概要・性能：Performance	基板上に塗布されたレジスト材に、電子線で直接描画をする露光装置。
仕様：Specs	・電子銃エミッター:ZrO/W ・加速電圧:30kV ・試料サイズ:最大5インチ・円弧スキャン可
説明：Guide	電子科学研究所クリーンルーム(創成棟1F)の継続利用について R6年度よりGFC総合システムより受け付けます。下記のリンク先をご確認いただき、お手続きをお願いいたします。 https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/instruments/1582

カタログ：Catalog

なし

マニュアル：Manual

の利用のため、下記の内容で講習を申し込みます。よろしいですか？ Apply with the following information. OK?
課題番号 * ：Issue No.
利用責任者：User Manager
利用者：User
申込日：Application Date	2025/06/06
初回講習料（基本料）：Initial Training Fee
連絡事項：Note