オープンファシリティ

【超高精度電子ビーム描画装置 125kV】

Ultra-high precision electron beam lithography system 125kV

メーカー／型番：エリオニクス／ELS-F125-U

AP-200001

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状態：Status

稼働中 In Service

予約状況
Equipment Availability

メーカー／型番：Manufacturer／Model Name

エリオニクス／ELS-F125-U

カテゴリー：Category

クリーンルーム内設置装置／創成棟内

装置管理者：Instrument Manager

ナノテク連携室
nano-support-GFC@es.hokudai.ac.jp
0117069340

装置所属／装置供出者：Affiliated Department／Instrument Provider

電子科学研究所
Advanced Research Infrastructure for Materials and Nanotechnology

利用料金：Fee

初回講習料Initial Training Fee	学外（他大学・公的機関）		￥35,200
	学外（その他・民間企業）		￥35,200

予約利用料Facility Usage Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥9,000 / 時間
		データあり	￥7,000 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥26,700 / 時間
		データあり	￥20,800 / 時間

技術代行料Processing Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥17,800 / 時間
		データあり	￥15,800 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥35,500 / 時間
		データあり	￥29,600 / 時間

技術補助料Technical Assisting Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥13,400 / 時間
		データあり	￥11,400 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥31,100 / 時間
		データあり	￥25,200 / 時間

技術支援料（通常）Technical Support Fee (Normal)	学外（他大学・公的機関）		￥4,400 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥4,400 / 時間

技術支援料（高度）Technical Support Fee (High)	学外（他大学・公的機関）		￥8,800 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥8,800 / 時間

技術相談料Technical Consulting Fee	学外（他大学・公的機関）		￥11,000 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥11,000 / 時間

備考：Note	マテリアル先端リサーチインフラ事業装置（ARIM装置番号：HK-602）
概要・性能：Performance	レジスト材料等に対し、電子線ビーム照射によるナノレベル微細パターン(最小線幅5nm)の描画が可能。
仕様：Specs	・電子銃:ZrO/W熱電界放射型・加速電圧:125kV、75kV、25kV ・描画最小線幅:5nm (125kV) ・試料サイズ:最大6インチ"
説明：Guide	電子科学研究所クリーンルーム(創成棟1F)の継続利用について R6年度よりGFC総合システムより受け付けます。下記のリンク先をご確認いただき、お手続きをお願いいたします。 https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/instruments/1582
参考論文：Scholarly Articles	「Room-Temperature Molecular Manipulation via Plasmonic Trapping at Electrified Interfaces」、Journal of the American Chemical Society Volume:144 Issue:6、2755–2764、2022、Nobuaki Oyamada

カタログ：Catalog

なし

マニュアル：Manual

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課題番号 * ：Issue No.
利用責任者：User Manager
利用者：User
申込日：Application Date	2025/04/30
初回講習料：Initial Training Fee
連絡事項：Note