オープンファシリティ

【ALD製膜装置】

メーカー／型番：Cambride NanoTech／Savannah 100

AP-200024

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状態：Status

停止中 Out of Service

予約状況
Equipment Availability

建屋・棟：Building	工学部C棟
フロア：Floor	C118（クリーンリーム）

メーカー／型番：Manufacturer／Model Name

Cambride NanoTech／Savannah 100

カテゴリー：Category

クリーンルーム内設置装置／工学部棟内
／工学部棟内

装置管理者：Instrument Manager

ナノテク装置管理者（情報）
nanolab@ist.hokudai.ac.jp
6539

装置所属／装置供出者：Affiliated Department／Instrument Provider

情報科学研究院
Advanced Research Infrastructure for Materials and Nanotechnology

利用料金：Fee

初回講習料（基本料）Initial Training Fee	学外（他大学・公的機関）		￥26,400
	学外（その他・民間企業）		￥26,400

予約利用料Facility Usage Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥1,900 / 時間
		データあり	￥1,500 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥3,500 / 時間
		データあり	￥2,700 / 時間

技術代行料Processing Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥10,700 / 時間
		データあり	￥10,300 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥12,300 / 時間
		データあり	￥11,500 / 時間

技術補助料Technical Assisting Fee	学外（他大学・公的機関）	データなし	￥6,300 / 時間
		データあり	￥5,900 / 時間
	学外（その他・民間企業）	データなし	￥7,900 / 時間
		データあり	￥7,100 / 時間

技術支援料（通常）Technical Support Fee (Normal)	学外（他大学・公的機関）		￥4,400 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥4,400 / 時間

技術支援料（高度）Technical Support Fee (High)	学外（他大学・公的機関）		￥8,800 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥8,800 / 時間

技術相談料Technical Consulting Fee	学外（他大学・公的機関）		￥11,000 / 時間
	学外（その他・民間企業）		￥11,000 / 時間

備考：Note	マテリアル先端リサーチインフラ事業装置
概要・性能：Performance	デジタル制御により原子層を1層ずつ堆積することで精確な厚さを実現可能。100℃～250℃程度の成膜温度で、Al2O3とHfO2薄膜を堆積、絶縁膜を形成できる。
仕様：Specs	・成膜材料:HfO2, Al2O3, ZrO2　・最大試料料サイズ:φ 200 mmまで

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課題番号 * ：Issue No.
利用責任者：User Manager
利用者：User
申込日：Application Date	2025/06/06
初回講習料（基本料）：Initial Training Fee
連絡事項：Note